化学抛光液的使用方法

1. 化学抛光液的使用方法

1、推荐工艺：（除油除锈活化→水洗→晾干）→电解抛光→水洗→钝化→水洗→中和→水洗；2、原液使用，铅板做阴极（负极），不锈钢工件做阳极（正极），温度为 60-65度，电流密度为10-25安培/平方分米，电压8—10伏，电解时间5-8分钟。（根据用户不同的要求可浸5-40分钟）

2. 抛光液的参考配方

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参考配方；在抛光液A中，聚乙二醇-4000 是黏度调节剂和增溶剂；十二烷基苯磺酸钠为表面活性剂，起增溶作用；磷酸三钠能提高水的润湿能力，去除表面污垢；对羟基苯甲酸为光亮剂；柠檬酸与氯化铵反应生成柠檬酸铵和盐酸，能使不锈钢表面发生选择性溶解，形成富铬表面层而增强耐蚀性；甘油可以防止酸雾产生，并与磷酸根离子生成配合物，起到缓蚀作用；乙二醇甲醚是渗透剂，能有效缩短抛光时间。

3. 抛光液的介绍

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。性能稳定、无毒，对环境无污染等作用。

4. 抛光液的简介

 polishing slurry抛光液CMP（Chemical Mechanical Polishing） 依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：（1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。（2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。

5. 抛光液用量

亲亲 很高兴为您解答 ： 抛光液用量答“亲亲固化地坪抛光液用量0.3公斤/平方米就可以的”抛光液使用方法？1.将需要处理的工件去除表面的有油污杂质，然后过水清洗。  2.过水清洗之后，将需要处理的工件挂到挂具上侵泡在电解抛光液中，（电解抛光液需要加温至60-70摄氏度， 整理器的电流需要调至15-18A 电压需要调至：2-15V ）电解抛光时间为2-5分钟即可拿出工件 过水清洗表面。  3.在过水清洗之后，需要做一道酸碱中和反应，因为电解抛光液是弱酸型的，需要跟碱水发生中和反应，这样抛出来的效果会更加光亮，稳定性也很好。【摘要】
抛光液用量【提问】
亲亲 很高兴为您解答 ： 抛光液用量答“亲亲固化地坪抛光液用量0.3公斤/平方米就可以的”抛光液使用方法？1.将需要处理的工件去除表面的有油污杂质，然后过水清洗。  2.过水清洗之后，将需要处理的工件挂到挂具上侵泡在电解抛光液中，（电解抛光液需要加温至60-70摄氏度， 整理器的电流需要调至15-18A 电压需要调至：2-15V ）电解抛光时间为2-5分钟即可拿出工件 过水清洗表面。  3.在过水清洗之后，需要做一道酸碱中和反应，因为电解抛光液是弱酸型的，需要跟碱水发生中和反应，这样抛出来的效果会更加光亮，稳定性也很好。【回答】

6. 抛光液是用什么材料做的

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒，对环境无污染等作用，光液使用方法：包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光；1抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置），2：抛光时间：根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。
抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

多晶金刚石抛光液
多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液
氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液
氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。
适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液
是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。
主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

7. 食品抛光液的使用方法

1.将需要处理的工件去除表面的有油污杂质，然后过水清洗。

2.过水清洗之后，将需要处理的工件挂到挂具上侵泡在电解抛光液中，（电解抛光液需要加温至60-70摄氏度， 整理器的电流需要调至15-18A 电压需要调至：2-15V ）电解抛光时间为2-5分钟即可拿出工件 过水清洗表面。

3.在过水清洗之后，需要做一道酸碱中和反应，因为电解抛光液是弱酸型的，需要跟碱水发生中和反应，这样抛出来的效果会更加光亮，稳定性也很好。【摘要】
食品抛光液的使用方法【提问】
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1.将需要处理的工件去除表面的有油污杂质，然后过水清洗。

2.过水清洗之后，将需要处理的工件挂到挂具上侵泡在电解抛光液中，（电解抛光液需要加温至60-70摄氏度， 整理器的电流需要调至15-18A 电压需要调至：2-15V ）电解抛光时间为2-5分钟即可拿出工件 过水清洗表面。

3.在过水清洗之后，需要做一道酸碱中和反应，因为电解抛光液是弱酸型的，需要跟碱水发生中和反应，这样抛出来的效果会更加光亮，稳定性也很好。【回答】
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8. 不锈钢抛光液的参考配方

2.3.1参考配方1将原料按照以下顺序分批加入烧杯中，加入热水，磁力搅拌，使物料溶解并混合均匀，即得到抛光液A。具体的加料顺序如下：第一步，先加入聚乙二醇-4000 ；第二步，加入甘油；第三步，加入部分水、十二烷基苯磺酸钠、磷酸三钠、对羟基苯甲酸，搅拌使其溶解；第四步，加入苯磺酸钠、柠檬酸、六次甲基四胺、乙二醇甲醚、氨基磺酸及剩余的水。  组分  投料量（g/L）  聚乙二醇-4000  20~50  对羟基苯甲酸  10~30  正磷酸钠  50~100  碳酸钾  10~30  氯化铵  1~5  氨基磺酸  30~50  甘油  10~30  柠檬酸  60~100  苯磺酸钠  5~10  乙二醇甲醚  10~30  十二烷基苯磺酸钠  1~10  EDTA  1~10  硫酸铜  1~10  水  余量  （此抛光液的pH值为4.0）在抛光液A中，聚乙二醇-4000 是黏度调节剂和增溶剂；十二烷基苯磺酸钠为表面活性剂，起增溶作用；磷酸三钠能提高水的润湿能力，去除表面污垢；对羟基苯甲酸为光亮剂；柠檬酸与氯化铵反应生成柠檬酸铵和盐酸，能使不锈钢表面发生选择性溶解，形成富铬表面层而增强耐蚀性；甘油可以防止酸雾产生，并与磷酸根离子生成配合物，起到缓蚀作用；乙二醇甲醚是渗透剂，能有效缩短抛光时间。2.3.2参考配方2  组分  投料量（g/L）  柠檬酸  100~200  磷酸二氢盐  200~300  正磷酸钠  20~100  有机磷酸盐  30~100  EDTA  10~30  水  余量  注：有机磷酸盐是、己二胺四甲叉膦酸（HDTMPA）、羟基乙叉二膦酸（HEDP）、氨基三甲叉膦酸（ATM）、二乙烯三胺五甲叉膦酸 （DTPMP）等有机磷化合物钾盐或钠盐中的一种或多种的混合物。