假如我们出高价来买荷兰的光刻机技术，荷兰会卖吗？

1. 假如我们出高价来买荷兰的光刻机技术，荷兰会卖吗？

不管我们出多么高的价格，荷兰都不会卖给我们光刻机的！至于为什么荷兰面对我们开出的诱人价格也无动于衷，下面就简单的分析一下吧。

第一个原因就是世界上能生产光刻机的国家屈指可数，拥有了光刻机能够提高一个国家自身的国际地位和行业的话语权，荷兰为了自身的国际影响肯定是不会卖给我们的。世界上能生产高端光刻机的国家就那么几个，而荷兰生产的ASML光刻机则是全球最先进的。荷兰也是凭借其在光刻机领域领先全球的能力在国际上颇具影响力，如果荷兰把光刻机卖给了我们，那肯定会降低自身的国际影响力，得不偿失。

第二个原因就是荷兰把那么先进的光刻机卖给我们肯定会牵扯到泄密的问题，这也是荷兰以及其他的国家所不愿意见到的。虽然说我们国家的光刻机技术相比较荷兰是比较落后的，但是如果我们得到了荷兰的光刻机，那么其中很多先进的技术可能就会被我们掌握了。我们也可能会因此而在光刻机技术上突飞猛进，制造出比荷兰更先进的光刻机，那样的话对荷兰来说损失可就太大了。

第三个原因就是光刻机的结构复杂，生产和安装调试的周期都比较长，荷兰把光刻机卖给我们之后就会出现一个真空期，不管在国际影响还是经济利益上面都会遭受重大的损失。且不说一台光刻机上面有多少个精密的零件了，就是一台光刻机的组装调试最少也需要几年才能完成，一点小小的误差就会耽误几个月的功夫。如果荷兰把光刻机卖给了我们，那等到荷兰再次拥有光刻机可能已经是两三年之后的事情了。而这两三年的真空期给荷兰造成的损失可就难以估计了。

2. 为什么只有荷兰能造光刻机？

  荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助。
  ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手，尼康和佳能是完全不同的。正是因为这样的政策，使得他们能够在整个设备的不同部位同时获得世界上最先进的技术，而他们自身也可以腾出手来在部件整合和客户需求上做文章。
一信息技术的重要性
   （1）管理信息化是指企业广泛利用现代信息技术，开发信息资源，把先进技术、管理理念引入到管理流程中，实现管理自动化，提高企业管理效率和水平，从而促进管理现代化，转换经营机制，建立现代化企业制度，实现有效降低成本，加快技术进步，增强核心竞争力。
   （2）信息化的实现，会使企业的生产经营模式发生深刻的变化。对信息的快速反应能力是检验工作效率和竞争力的重要标志，建立企业和部门信息网络，实现信息化既是社会需求，也是企业适应市场，促进自身发展的需要。

二科技的重要性
   （1）科学技术的认识功能。凭借着迅速发展的科学技术，人们不仅能认识自然状态下显露的事实，也能认识超出感官功能的微生物、基本粒子、红外。不仅能捕捉、搜寻到现象，也能揭示出现象背后的本质和规律；不仅认识当下的现有事物，也能追溯过去和预测未来。
   （2）科学技术的生产力功能。科学技术一方面渗透到生产力的实体要素中，通过物化为新的劳动资料，特别是其中的生产工具；通过提高劳动者的素质和生产技能，通过扩大劳动对象；开辟新的产业部门来实现其生产力功能。

3. 假如我们出高价来买荷兰的光刻机技术，荷兰会卖吗？

很大概率不会。中国别说是买荷兰ASML的光刻机技术，就是他们生产的EUV光刻机我们也很难买到。由于美国的打压，国内最大的集成电路芯片制造企业中芯国际曾于2018年以1.2亿美元向荷兰ASML公司预定一台EUV光刻机，至今不能发货，而且ASML公司还终止了与中芯国际7nm以下先进工艺EUV光刻机的合作计划，对中国实行了严密的技术封锁。拓展资料一、两种工艺常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。在广义上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。①光复印工艺：经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。②刻蚀工艺：利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。例如，大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递。在狭义上，光刻工艺仅指光复印工艺,即从④到⑤或从③到⑤的工艺过程。二、曝光方式常用的曝光方式分类如下：接触式曝光和非接触式曝光的区别，在于曝光时掩模与晶片间相对关系是贴紧还是分开。接触式曝光具有分辨率高、复印面积大、复印精度好、曝光设备简单、操作方便和生产效率高等特点。但容易损伤和沾污掩模版和晶片上的感光胶涂层,影响成品率和掩模版寿命,对准精度的提高也受到较多的限制。一般认为，接触式曝光只适于分立元件和中、小规模集成电路的生产。非接触式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系统中，掩膜图形经光学系统成像在感光层上，掩模与晶片上的感光胶层不接触,不会引起损伤和沾污,成品率较高，对准精度也高，能满足高集成度器件和电路生产的要求。但投影曝光设备复杂，技术难度高，因而不适于低档产品的生产。现代应用最广的是 1:1倍的全反射扫描曝光系统和x:1倍的在硅片上直接分步重复曝光系统。

4. 为何荷兰能垄断光刻机？其实技术难度堪比登天

我国在芯片领域当中，除了有着很高的技术壁垒需要突破之外，而技术难度堪比登天的光刻机也同样是十分重要的，对我国的发展来说，更是起到了很大的作用，但是我国在光刻机当中的发展在研发时日之上相对来说是比较晚的，而光刻机也一直以来被荷兰垄断市场。 
     
  当美国对华为实行实体黑名单以及被各种相关政策制裁的时候，我国 科技 企业未来的发展道路会面临的阻碍远远不止于当前，芯片的发展当中，由于我国短板的暴露，也就会被其他一些国家抓住“小辫子”。 
  
  我国又是一个人口大国，在芯片消费当中也有着很高的比例，成为了芯片消耗大国，但是因为我国无法突破一些芯片技术壁垒，这也就导致目前在半导体领域当中的发展，有着很大的阻碍，在研发道路之上，可以说是几乎处于停滞不前的状态。 
     
  我国在半导体领域当中，也时不时会有好消息传出，目前我国成功地进口了一台光刻机，虽然这一台光刻机并不是原本定制的7nm紫外光刻机，而是一台14nm常规设备，但正是这样一台常规设备，在一定程度上也可以缓解我国 科技 企业在芯片需求当中的发展困境。 
     
  尤其是此次华为在面临芯片断供之后，华为与中芯国际之间的合作，就急需要一台光刻机来解决目前的发展困境，而光刻机在工业生产领域当中，一直都有着不可撼动的地位，光刻机甚至还被称为现代光学工业之花，那么由此也就可以看出，在工业领域当中的发展，如果要想壮大起来的话，也必然是绕不开光刻机的。 
     
  光刻机与芯片之间也是有着紧密的联系，光刻机就是制造芯片的重要关键设备，因为芯片的制造如果离开了光刻机的话，也是无法被生产的。华为此次选择与中芯国际合作，一方面是为了给自己芯片断供带来后路之外，更重要的是中芯国际也急需华为的订单。 
  
  因为华为现在掌握了5G核心技术，在拓展海外市场的时候，遭受到了来自美国等其他一些国家的阻挠，所以当海外市场的发展并不能够如期进行的时候，华为又正处于发展最盛的时期，对芯片的需求自然也是非常高的。 
     
  而目前与中芯国际之间达成的合作就是在14nm芯片量产上，而中芯国际如果缺少光刻机的话，就将无法实现芯片的量产，从而也会影响到华为接下来的发展。 
  
  因为中芯国际急需7nm紫外光刻机，如果说要进口光刻机的话，就必须要从荷兰进口，主要是因为荷兰的ASML在光刻机制造当中有着更加顶尖的技术，并且常年以来在光刻机领域当中垄断市场。 
     
  河南的ASML在市场的占有率当中就已经是非常高的，甚至如果能够购买到一台高端光刻机的话，对于许多的 科技 企业来说，必然会为自身的发展带来更多的动力。 
  
  而如今我国目前在半导体领域当中的发展是有所不足的，因此在芯片工艺进程当中的技术也只能够达到中低端的水平，在光刻机当中，如果能够进口，必然也是满足现在的发展需求，而且不少的知名厂商也成为了ASML的客户，由此也就可以看出荷兰的ASML是有着不可小觑的实力。 
     
  因为光刻机的制造是十分复杂的，除了在这种设备当中要加入的研发投入成本是十分之高的之外，其背后所涉及到的技术门槛也会十分的高。 
     
  荷兰的ASML之所以能够垄断光刻机领域当中绝大部分的市场，最重要的是其对公司所留下的研发人员也是非常之多，如此一来，既能够掌握技术，同时又能够保留人才，这样的话a sml才能够一直发展下去。 
     
  因为ASML在镜片当中选择的是蔡司技术，无论是在材质上还是在性能上，都要更加的好一些，再加上荷兰ASML光刻机采用的工艺以及光源等相关的技术，其实背后都是离不开整个欧美市场的。 
     
  也就是说，光刻机的制造并不仅仅是来源于荷兰的技术，也来自于欧美市场背后的顶尖技术，只有这些顶尖技术集合在一起，才能够为光刻机的制造带来重要的前提准备。 
  
  而光刻机因为在半导体领域当中是有着很大的作用，而我国在这个领域当中都暴露出了自身发展的短板，所以也就会更加的重视光刻机的发展，因此我国半导体领域除了有不少各大高校院校加入之外，还有不少的科研院也在为半导体领域的发展作出自身的贡献。 
     
  毕竟此次芯片短板的暴露，就让我国的许多 科技 企业发展有所掣肘，因此要向我国的 科技 领域发展不受限制的话，突破相关的技术壁垒是十分必要的。

5. 为什么只有荷兰能制造最先进的光刻机，而美国不行？

在芯片制造过程中，有这么一项步骤：利用紫外线去除晶圆表面的保护膜。用以完成这一个步骤的机器，我们称它为光刻机。
  
 芯片制造，光刻机是核心设备。目前在光刻机领域，有四个档次，分别是超高端、高端、中端和低端，分别对应的节点是5/7nm工艺、7-28nm工艺、28-65nm工艺和65-90nm工艺。
  
 如今，任何电子设备几乎都离不开芯片，而自从芯片工艺进入到7nm时代后，需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备，才能制造7nm、5nm等先进制程工艺的芯片产品。目前，这种顶尖的EUV极紫外光刻机，只有荷兰光刻机巨头ASML（阿斯麦）才能制造。
     
 如果没有光刻机，即使能设计出最为先进的芯片，也无法进行制造和封装等后续的操作。这也就是为什么华为海思研发的基于5nm工艺的麒麟9000芯片，在国际上都享有盛名，但没有高端EUV光刻机的支持，就算拿到世界第一，也无用武之地。
  
 为什么最顶尖的光刻机是来自荷兰，而不是美国？
  
 20世纪60-70年代，光刻机的早期发展阶段，美国是走在世界前面的。那时的光刻机原理很简单，就是把光通过带电路图的掩膜投影到涂有光敏胶的晶圆上，那时的晶圆也只有1英寸大小。
  
 80年代左右，由于美国的扶持，一些装配产业向日本转移，日本也抓住了机遇，在半导体领域趁势崛起。90年代，日本的半导体产业成为了全球第一，出口额超过美国。
  
 1984年，荷兰光刻机厂商ASML成立，此时的阿斯麦只是飞利浦和一家小公司ASM International以50:50的比例组成的合资公司，最初员工只有31人。在成立初期，ASML没钱没客户，甚至只能在简易木板房工作。
     
 1997年，英特尔和美国能源部牵头组建EUV LLC前沿技术组织，集成了通讯巨头摩托罗拉、IBM、芯片巨头AMD，以及能源部下属三大国家实验室：劳伦斯-利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
  
 这些实验室是美国 科技 发展的幕后英雄，之前的研究成果覆盖物理、化学、制造业、半导体行业的各种前沿 科技 。
     
 此时的美国政府将EUV技术视为推动本国半导体产业发展的核心技术，并不太希望外国企业参与其中，但是此时美国本土光刻机企业已是“扶不起的阿斗”。
  
 最后，ASML同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，以满足所有美国本土的产能需求，保证55%的零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查，才被纳入美国EUV LLC联盟。
  
 这也就是为什么说“ASML一半是欧洲的，一半是美国的。”
  
 ASML被允许加入EUV LLC之后便顺风顺水一飞冲天，而尼康和佳能却被排除在外，从而失去了未来的门票。
     
 十多年来，ASML一直都占据着全球第一的位置，而ASML的总裁也曾表示，即使他们将EUV光刻机制造的图纸公开，也没有一家公司可以顺利制造出来。
  
 EUV光刻机，这台比原子弹还难造的机器，单台售价超过1.2亿美元，虽然价格高昂，却依旧供不应求，甚至有些国家就算出价再高也买不到。
  
 一台顶级的EUV光刻机重达180吨，包含大约10万个零部件，全球供应商超过5000家，需要40个集装箱运输。即使你购买到了ASML的EUV光刻机，如果没有他们的帮助，你也无法正常安装使用，整个光刻机设备的安装调试就需要一年时间。
     
 虽然ASML是一家荷兰公司，但它的背后却有着欧盟及美国的力量，很多关键技术都是由美国及欧盟国家提供的。一台顶尖EUV光刻机的零部件中，美国光源占27%、荷兰腔体和英国真空占32%、日本材料占27%、德国光学系统占14%，它是全世界顶尖技术的结晶。
  
 目前中国的光刻机领域还处于初步发展阶段，上海微电子已经能够实现90nm光刻机量产。但是90nm之后，还有65nm、45nm、32nm、22nm、14nm、10nm、7nm、5nm，这些节点技术一步一个坎，有些坎几年都未必能更新出一代。万里长征才开始第一步。
     
 文 深挖DIG

6. 全世界只有荷兰可以制造顶级光刻机吗？

只有荷兰的ASML公司能够制造出顶级的光刻机，主要有三种原因。

一、ASML公司专注光刻机技术研发，有充足的资金投入。
光刻机是比印钞机更赚钱，因此全球有多个公司都想从该市场分一杯羹，其中就有尼康和佳能。可光刻机技术研发经费就像一个无底洞，ASML公司就曾将年度盈利的百分之十五全部投入。相比于ASML公司财大气粗，佳能和尼康因为顾及到其他业务，无法耗费如此多经费，在光刻机制造领域渐渐地被ASML公司甩在了身后。
ASML公司是从飞利浦公司分出来，看到飞利浦因涉足太多产业而濒临破产，它便吸取教训，从独立之日起就一直专注在光刻机制造领域。敬佩ASML公司长远的眼光，在芯片需求登顶的信息时代，其光刻机制造垄断了全球市场，每年的盈利额巨大，从而投入光刻机技术研发的经费更多，循环往复，荷兰ASML公司的光刻机技术研发一骑绝尘。

二、荷兰拥有良好的科技共享环境。
整个欧洲经历过战乱，渴望和平、团结。因此二战结束后，出于和平渴望，无形当中为欧洲科技发展提供了一个共享资源环境。荷兰ASML公司就是在科技共享圈中稳步发展起来，一方面ASML公司在掌握光刻机制造核心技术，向他国进口相应的光刻机原件，例如法国提供相应芯片、英国提供软件、德国供给光学组件等；另一方面，ASML公司将原件组装之后，加载光刻机核心技术，并向提供原件的各国输送定制的光刻机，实现双方互利共赢。
在这种发展模式下，ASML公司的芯片制程可以低于七纳米，精度可以低于五纳米，同时段的我国的光刻机只能有低于90纳米的制程，这种巨大差距，足以看出荷兰ASML公司光刻机技术是多么逆天！

三、荷兰ASML公司能取长补短地完成大量收购行为。
荷兰是老牌的资本主义制度国家，奉行的是自由足以贸易，因为在反垄断上限度很低。ASML公司知取长补短，不断吞并收购科技公司，准备集百家之长，取其精华，研发出更为惊叹的光刻机技术。2007年到2016年间，它陆续收购了Brion、Cymer、HMI等等，拥有全球最领先的光刻机缺陷解决方案、准分子激光技术以及电子束检测能力等等。如今的ASML公司已经成为光刻机研发领域的庞然大物，之后怎么可能会有其他科技公司敢与ASML公司对抗呢？

7. 光刻机的制造难度相当大，为何荷兰这个国家却能掌握光刻机的制造技术？

光刻机的制造难度相当大，为何荷兰这个国家却能掌握光刻机的制造技术？在科技领域，光刻机一直是顶尖的神话，许多科学家和工程师都能参与到高端光刻机的设计和制造中，已经代表了其在业界的顶尖水平。一台光刻机的制造，需要10万个零件，各种精密仪器至关重要。业内工程师透露，高端光刻机一个零件的调试需要10年时间，核心子系统需要各国顶级大公司提供。比如比较重要的光学技术，几乎都是由日本公司控制。说起光刻机的原理其实很简单，就像照相机一样，通过曝光的方式把设计好的芯片电路图放在硅片上，最后用光刻出芯片电路图。因此，在光学技术上有很大优势的日本，在光刻机领域有很大的发言权。




例如，日本的佳能和尼康是光刻机市场的大玩家，而曾经是荷兰公司的ASML在它们面前则是小角色。尼康和佳能也是行业中突出的相机巨头，因为光刻胶和相机的工作原理是一样的。但如果没有荷兰提供的光刻机，美国和韩国的很多芯片制造商也就凉了，因为光刻机在芯片制造过程中的作用非常明显，可以说是芯片制造过程中的核心，因为光刻机直接决定了芯片制造过程。例如，如果你想做一个7纳米的芯片，前提是光刻机能够支持7纳米芯片的生产，否则你就无法设计出7纳米的芯片。



因此，即使像美国和韩国这样的芯片制造商也要听从荷兰的摆布。如果荷兰不向他们提供高端光刻机，他们的芯片就会陷入瘫痪。看来这个估计很多人都有疑问，像美国这么发达的国家，科技实力都在世界前列，难道他也能生产高端光刻机？为什么荷兰这么一个小国却掌握了光刻机的核心技术？

客观地说，美国确实没有掌握高端光学技术的核心技术。目前，世界上最高端的光刻机基本被荷兰ASML公司垄断。例如，世界上14纳米以上的光刻机基本被荷兰ASML垄断，而7纳米的EUV光刻机只有荷兰ASML能提供。

8. 中国有荷兰光刻机吗

荷兰光刻机如下：
荷兰有一家公司ASML，它是全球做光刻机最好的国家，这个根本不用质疑，这家公司拥有强大的科研实力，碾压了美国英国等等貌似芯片软件实力极强的国家。
而且这家公司非常精准的抓住了光刻机技术发展的转折点，旗下的利用光源进行的浸没式系统成功打破所有国家对于光刻机的幻想，所以荷兰才能在全球的芯片制作技术中立于不败之地。
ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。
ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是主推的高端机型，全部为沉浸式。

技术前景：
除了致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC, IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV，用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。
ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。2007年末三星(Samsung)宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。
以上内容参考：百度百科—ASML公司