EUV光刻机10亿一台供不应求,它的需求量为何那么大?

2024-05-21 07:05

1. EUV光刻机10亿一台供不应求,它的需求量为何那么大?

EUV光刻机本身是一种尖端光刻机,国内的厂商很需要这个东西,无论是手机还是电脑的制造厂商都需要这个东西,可以说与智能芯片产业发展相关的公司都非常希望自己有一台真正高端的光刻机,别说花10亿了,更大的代价也愿意花。
但是国内的厂商拿不到这样的技术,因为你可能有钱,但人家不愿意卖给你,国外真正能有这种高端的光刻机的厂商就那么几个。因为这一个光刻机真正造出来,那都是几千家上万家厂商合作提供的零件组装到一起才有的,这个技术可以说光刻机就是现在人类智慧的巅峰,至少也算是人类智慧,前几的存在。这个东西就相当于把电子产品造出来一个大脑,像人的脑子一样去思考处理一些事情,只是在现在还没有那么强。
因为尽管你愿意花更多的钱,但国外就这个是处在技术封锁的状态的,国外几乎所有的国家都知道,我们的模仿能力是相当之强的,这个东西你只要敢给一台真正高端的东西,我们自己研究不需要太多,三年两年我们这方面的技术就会突飞猛进。所以国外很多国家吃过这个亏啊,至少在他们看来是这样的,他们不愿意把技术给你,你要是需要高端的芯片我可以帮你生产,但是你得听我的话。我要多少利润比例你得给我,我要相应的设计图纸人家给我你不给我,那对不起我不给你生产了,你想要机器门的也没有,你给多少钱也不卖你,因为他们知道这东西不能给。
所以这个东西一直都是一个技术壁垒,我们国内的厂商很多都是被人卡脖子的,这技术如果真的能突破的话,国内手机的价格,电脑的价格可能就会有进一步的下降。因为这个价格里面现在包括很多是给国外的这些芯片制造厂商的,如果我们自己就能生产的话,那成本就更低了呀,价格自然就能进一步控制。

EUV光刻机10亿一台供不应求,它的需求量为何那么大?

2. 再见了,EUV光刻机?

“本文原创,禁止抄袭,违者必究”
  
 作为全球半导体设备制造巨头的ASML公司,几乎全球的光刻设备都是由它提供的。不仅是DUV光刻机占据着绝大多数的市场份额,在EUV光刻设备上更是只有它造得出来,处于垄断地位。
     
 随着芯片紧缺愈演愈烈,为了缓解芯片紧缺的问题,各个芯片大厂在扩厂生产的需求下争相向ASML订购EUV光刻机。
  
 但随着“芯片规则”的修改和全球公共卫生问题的产生,ASML的光刻设备自由出货受到限制,芯片的制造成本也在不但增加,甚至有些光刻零件供应链开始延迟出货。
  
 在此背景下,越来越多的企业开始寻求其他路径,以求绕过EUV光刻设备,制造出先进制程的芯片。
  
 英特尔就研发出新型 3D 堆叠、多芯片封装技术,该项技术被命名为Foveros Direct。它能够应用于多种芯片混合封装的场景,不仅能够将 CPU、GPU、IO 芯片以相邻或者层叠的方式紧密结合在一起,还能兼容不同厂商的芯片进行混合封装。
     
  2021 年 7 月英特尔更是推出了 RibbonFET 新型晶体管架构,通过将 NMOS芯片 和 PMOS芯片堆叠在一起,在制程不变的情况下,晶体管密度提升了 30% 至 50%。通过这项技术,芯片制程缩小到10nm以下,最多能达到5nm。
  
 日本铠侠公司联合佳能开发出新的NIL(纳米压印微影技术)工艺,它是一种将纳米图案印章转移到晶圆上的技术。
  
 它的工作原理是 基于机械复制的,通过印刷技术与微电子加工工艺相互融合,使用电子束刻蚀的方式,不受光学衍射的限制。能够解决光衍射现象造成的分辨率极限问题,实现让电路线宽变得更窄,理论上来说分辨率会比EUV光刻机要高。
  
 NIL的微影制程相对来说较为单纯,耗电量能比EUV光刻机减少10%,在设备的投资成本上也节省了40%,目前已经可以实现15nm制程的量产并应用到NAND闪存制造上,预计到2025年最高能产出5nm精密度制程的芯片。
     
 适合工业化、低成本且具有高效率的优势让它一经推出就受到业内的重视,越来越多厂家对它感兴趣并进行询问。
  
 俄罗斯初期投入 6.7 亿卢布用于X射线光刻机的制造。目前MIET(俄罗斯莫斯科电子技术学院)已经承接了该项目。根据当地媒体的说法,X射线光刻机性能甚至能与EUV光刻机比肩。
  
 不同于EUV的极紫外技术,俄罗斯自研的光刻机使用的是X射线技术。从光刻设备的发展历程来看,越是高端的光刻设备,波长越短曝光分辨率就越高。
     
 EUV的极紫外波长 为13.5nm, X 射线的波长在 0.01nm 到 10nm 之间,光从波长来看, X 射线光刻机是比EUV光刻机有优势的,不需要光掩模版的直写光刻方式也使成本大为降低。
  
 但X 射线穿透性太强,只能用于直写光刻导致速度太慢,目前MIET面临的最大问题就是在工艺以及效率的提升上。
  
 俄罗斯虽然半导体产业不发达,但在X射线和等离子这方面的技术上有着深厚的基础,要提升工艺实现量产并非不可能。
  
  Chiplet 技术就是我们常听到的“小芯片”技术。目前国际上很多知名企业都在发展“小芯片”技术。
     
 如全球规模最大的芯片代工厂——台积电,就自研出新的3D芯片封装工艺,通过将两枚低制程芯片用先进的3D封装工艺封装在一起,能提升1.5倍的性能。
  
 对于3D封装技术,台积电还在不断进行试验和优化,目前最高已经能产出3nm制程的芯片。只是良品率还不高,成本消耗也更大。但对于能绕开EUV光刻机实现自主生产,就意味着能拥有自主权实现自由出货,这就是值得的。
  
 苹果公司最新推出的M1 Ultra芯片也是将两枚M1芯片并列粘合在一起组成的,经过检测,M1 Ultra芯片的性能甚至比A15还要高出65%。
     
 华为在5G芯片得不到供应之后,也明确表示会采用芯片堆叠技术,用面积换取性能。目前华为已经开发出芯片堆叠封装及终端设备并申请了专利。
  
 在本就是自研芯片的基础上,有了自己的设备,华为要生产出芯片是不难的。
  
 这些企业纷纷进入芯片相关产程自研,就是为了绕开EUV光刻设备的限制实现芯片自由。已经不能自由出货的ASML对各商家来说负面影响是很大的,不仅芯片的增产计划受到影响,可能客户的订单都不能如期交付。
  
 而且,在美方技术的限制下,ASML已经隐隐有被操控的迹象,避免EUV光刻机的限制,也是在挣脱老美在半导体领域的限制。
     
 这也表明,如果ASML无法实现自主出货,终将会被时代抛弃。
  
 对于各个企业纷纷开始自研光刻设备和芯片技术,大家有什么想法呢?欢迎在评论区留下您独到的见解。

3. 新计划确定,EUV光刻机的情况令人“意外”

芯片的发展一直遵循摩尔定律,不断向微缩方向前进 ,如今进入到10nm制程以下,7nm、5nm已经实现量产,马上就要进行3nm的量产,2nm研发也提上日程。
  
 但随着芯片制程的越来越小,技术难度也越来越大,因为不仅材料即将达到物理极限,就连所依赖的光刻机也需要更新迭代。于是,ASML有了新计划,开始着眼长远。
     
 对于芯片制造来说,不可或缺的最关键设备就是光刻机。因为光刻机的先进性决定了芯片厂商能做的制程工艺,就比如7nm以下制程的芯片,就必须用EUV光刻机。
  
 但目前EUV只有ASML一家能够生产,且从2012年出货开始,到去年为止总共才出货了140台,加上今年第一季度3台共146台,正式批量出货才从2017年开始。
  
 这其中有一半多被台积电一家买走,据说占比为55%,也就是买走了79台EUV。
     
 剩下的45%,约64台EUV,为三星、英特尔、SK海力士等共同分得。可见,其他厂商想多获得也不容易。为争取更多EUV,三星负责人两次前往ASML总部去争取。
  
 值得一提的是,EUV还限制出货给中企。中芯国际2018年订购了一台EUV, 由于美方阻挠,至今未到货。不仅如此,美又修改规则,国外厂商的大陆厂也不能获得。
  
 之前,韩企SK海力士的无锡厂就中招了。不过,这种情况可能将要发生改变了。
     
 ASML早就对EUV出货限制表示出不满,曾表示主要是《瓦森纳协议》相关国家的限制,还直接警告限制只会加速大陆技术突破,到时他们只能面临失去市场的后果。
  
 发怨言、警告都没什么用,于是ASML只能自己行动,争取自由出货。一方面,加快EUV更新迭代,研发新一代EUV。另一方面,继续扩大产能,提高EUV市占率。
  
 其实,ASML自己很明白,只有EUV自由出货,抓住大陆市场才能实现更好发展。
     
 在今年一季度财报会上,ASML披露了EUV出货计划,为了满足不断扩大的需求,今年计划出货55台EUV,并且产能还会逐步提升,到 2025年时争取出货达90台。
  
 90台EUV什么概念,台积电6年间获得才79台,年产90台将超过实际的需求。
  
 按计划,2025年时新一代High-NA EUV也开始量产出货。这样,原来的EUV就成了迭代产品,加上产能已超过需求,再不让出货就说不过去了,ASML就有机会了。
     
 有人可能会说,ASML为什么要生产那么多,让EUV供过于求,这不是给自己找麻烦吗?要知道,ASML研发EUV技术超过十年,先后投入400多亿,为的是什么?
  
 作为企业,自然要实现利润最大化,首先自然是收回成本,再者就是要用它来获得更多的收益。让EUV供过于求,正是为争取大陆这个最大的市场,为了更多利润。
  
 因为EUV限制,我们早就开始布局研发国产EUV,所以ASML是在为自己抢时间。
     
 一旦我们突破了EUV,能够做出国产EUV,还会有ASML的事吗?所以ASML才会积极推进EUV自由出货,争取在我们突破前占领市场,就像现在DUV光刻机一样。
    
 再说,还有替代EUV的技术在研发,比如NIL技术,因此留给ASML的时间不多了。
     
 对于ASML90台计划,外媒评价道,这相当于承认了,确实在争取EUV自由出货。
  
 即使如此,EUV自由出货也是3年以后的事了,到时什么情况谁也说不准。因此,我们不必对此寄予希望,还是踏实进行EUV相关技术研发,争取早日实现国产EUV!

新计划确定,EUV光刻机的情况令人“意外”

4. 比EUV光刻机垄断更可怕的是,精密仪器90%市场被美国日本所垄断

自从华为被断供以来,光刻机就成为了国人之痛,作为芯片制造过程中,最为核心的重要设备,却一直掌握在国外的手里,如今我们在芯片供应方面被人卡住脖子,就是因为ASML公司无法自由出货,导致我们无法拥有能打造高端芯片的EUV光刻机,比如我国物理学家杨振宁,其实早在几十年前就已经提醒世人,不要将钱浪费在建造对撞机上,而是要将钱放在半导体领域的研发,结果这样的提醒在当时的中国看来,完全就是显得非常多余,因为谁也没有想到如今半导体会成为 科技 发展最重要的支柱,可是真正比EUV光刻机垄断更可怕的 科技 领域,其实还有一个,那就是精密仪器领域,我国在精密仪器领域的市场份额,几乎有90%都被美国和日本所垄断。
     
 确实如此,随着中国 科技 的不断发展,其实我们在很多领域都已经实现领先,这也是为什么现在中国的影响力越来越高,也是为什么国外媒体总是报道中国 科技 发展得越来越好,然而我们不仅在半导体领域被EUV光刻机卡住脖子,同时我们在精密仪器领域也受制于人,所谓的精密仪器就是指面向高端制造装备、生物医学工程和航天国防等重大前沿 科技 领域,是以精密机械、光学、电子、量子技术、计算机等前沿 科技 为手段,来 探索 并研究和设计新原理的高端仪器,从而实现自动化、信息化、智能化的前沿 科技 ,如测量仪器、检测仪器以及精密电子仪器等尖端科学仪器,正是这些仪器我们基本都需要从国外进口,才能满足国内市场所需。
     
 
  
  
 比如截止2021年,我国企业就已经累积投入了3800亿用于仪器进口,很多精密仪器都是花大价钱从国外进口来的,除了为了满足我国国内市场所需之外,同时也是为了拆解后进行科学研究,希望能打破来自国外技术的垄断,然而拆解后才发现技术的精密程度远超人们的想象,这也是为什么我们现在连山寨版都无法实现的具体原因,前几年常常有人说中国是山寨大国,无论国外有什么技术我们总是能模仿并生产,可是如此高端的精密仪器我们却连山寨版都做不出来,这就和EUV光刻机一样,其难度之大是超乎所有人的想象,据可靠数据统计,我国在该领域的自给率连5%都没有达到,几乎有90%以上的精密仪器都是从美国和日本进口的,而且进口的价格还特别的贵。
     
 
  
  
 那么为什么我国连山寨版的精密仪器都无法制造呢?未来要如何打破这种垄断的局面呢?其实高端精密仪器虽然属于冷门行业,但是我国企业也投入了大量精力,甚至可以说投入的力度一点不比在半导体领域小,可是由于该领域的市场规模有限,这也就意味着很多企业是难以生存的,包括行业又自带重资产属性,哪怕是产生了一定的成果也未必会得到市场认可,这也是为什么很多企业不敢投入更多资金去研发的原因,而更加重要的是,科研仪器的研发技术门槛很高,涉及到的基础学科众多,然而我国相关人才又少之又少,这也导致我们企业很难招聘到满意的人才,所以自然也组建不了相应的科研团队,特别是产业链基本集中在美日企业,很多核心技术都掌握在他们手里,想要突破更是难上加难。

5. 不用EUV光刻机也行?华为芯片研发新进展,老美只能无奈接受

相信大家对于近些日子以来,华为海思芯片遭到制裁之后,都有着一样的担忧和惆怅吧。要知道,传统的芯片工序繁杂,而且一切流程随处可见的是硅的身影。 
  
  就在这个时候,华为提出了研发芯片新技术的想法,并将其付诸实践。不用EUV光刻机也行?华为开启芯片新技术研发,这回谁也拦不住。 
  
  为了这次的公开专利显示,华为更是下重本申请了“光计算芯片”的专利,与以往的芯片不一样的是,这次要研发的新型芯片,基本方向是被定为光子芯片的。 
  
  而听到光子芯片这个名字,想必你也能够想象得到它所追求的,必然是飞快的速度,以及高效的效率了吧。不过也正因为如此,它的研发难度你可想而知。 
  
  不过一旦这种芯片研发能够成功,那么不用EUV光刻机也可以,它如果能够取得成功,势必将成为半导体行业的一大极具纪念意义的里程碑。 
     
  众所周知,华为一直以来,都是我国人民的骄傲。它不单单是拿下了5G的代理权,而且在半导体的芯片市场一直都是芯片厂家强有力的对手。 
  
  而华为能够取得如此傲人成绩的主要原因,还是源于它对于产品不断的研究和创新能力。 
  
  而这次,它更是主力要打破大众对于传统 芯片的认识,不再采用硅作为主要的原材料,而是申请了“光计算芯片”的专利,将此使用在了系统和数据处理技术上面。 
  
  华为此举,我们不得不说,是非常冒险而又极具胆识的举动。相信很多的企业都不得不佩服华为能够拥有这样过人的胆识和魄力吧,毕竟这也不是谁都能够做得到的。 
  
  而华为其实也是经过了很多层面的考虑和深思,才得出了这样的结论的吧。 
  
  之前,就有美国大学利用光作为传输媒介从而成功研发光子芯片的故事,那么想来,华为想要成功研发光计算芯片,也并不是异想天开的事情,这也是建立在现有的现实依据之上的,是经过精密的计算的。 
     
  其实,全世界的企业对于光子芯片这一个概念,并不是第一次听说了。相反,对于这个领域,大家伙都是充满着好奇和 探索 精神的,只是华为冲在了第一线上,成为了第一个吃螃蟹的人。 
  
  要知道,光子的速度和效率是非常之高的,几乎是电子的好几十倍的存在。所以,不少的人们预言,光子芯片或许有望成为新一代的芯片体系,引领着新一轮的半导体行业中的芯片技术体系。 
  
  不过,由于光子芯片的极快速度和极高的效率,我们也可以从侧面看出,它的研发所需要历经的困境之多,毕竟,这些都不是可以一蹴而就的。 
  
  一旦成功,那么就意味着我们将可以使用更加成熟的芯片制造技术,甚至于不用依赖EUV光刻机也可以实现算力的分析。 
  
  不过,我国目前对于光子芯片研究的企业和领域还是很稀少的,基本上还是比较依赖于海外的研究和技术成果。 
  
  而此次华为的芯片新技术的研究,涉及到了新型的光子芯片的新领域,它的每一个小的步伐,都将是整个行业的一大进步,所以也是备受世人的期待。 
     
  也正是因为如此,想来,华为身上所要承担的压力更是数不胜数的。不过,华为此次的决定,相信是谁也拦不住的,而华为也是下定了决心,要在往后的路上跟芯片的发展和新工艺的研发一路死磕到底了吧。 
  
  华为的这一个重大的举措,在我看来,是非常具有大企业气度行为。它丝毫不畏惧往后可能要面对的困境和很有可能遇到的失败的情形,是非常值得被世人所称赞的行为。 
  
  而且,我想,哪怕现在的传统芯片工艺制造地再精细,哪怕是从7纳米进化到5纳米,虽说每次都是在打破芯片行业的极限。 
  
  但是,我们也不得不承认,这样的前路是极其渺茫的。台积电花费了几十年的时间,取得了5纳米的成绩,但是未来呢? 
  
  芯片的发展又应该朝着怎么的步伐而去前行呢?这个时候,华为的光计算芯片的概念就成为了芯片行业新的指路灯。 
     
  我们必须相信, 科技 的发展是极其飞快的,它始终是令人感觉到不可思议的存在,与此同时,它也是最具现实主义的存在吧。 
  
  很多的产业发展都不会局限于一个方向,因为如果只有一个方向的话,这个行业将很难得到全面的发展。 
  
  芯片行业的发展也是如此,如果一味只是朝着传统芯片去精化,相信时间一长,也是难以承载的,所以对于芯片新技术的 探索 是势在必行的行为,而华为则是恰巧地勇敢踏出了这一步。 
  
  华为此次研发的方向是光子芯片的。不过也正因为如此,它的研发难度你可想而知,这也就是为什么那么多的企业,就算是极其专业的芯片生产厂家,也不敢贸然进行研发。 
  
  毕竟它不管是金钱的投入,时间上的成本,亦或者是对人才的需求,都是一个庞大的数字,令人望而止步。 
  
  不过我们也必须看到,成功往往都是建立在风险之上的,一旦这种芯片研发能够成功,那么在未来的时间里,我们就算不用EUV光刻机也可以进行芯片计算分析! 
     
  写在后面 
  
  这也从另一个层面,证明了它如果一旦能够取得成功,势必将成为半导体行业的一大极具纪念意义的里程碑,推动着整个芯片行业朝着新技术领域发展。 
  
  至于接下来的发展会是怎么样一个局面,相信谁也没有办法给出一个绝对的答案,那么就让我们把这个谜底的揭晓,留给时间吧,相信在未来的时间里,我们会受到一份满意的答卷的。 
  
  对此,你有什么样的看法呢?

不用EUV光刻机也行?华为芯片研发新进展,老美只能无奈接受

6. 继16座芯片厂后,EUV光刻机迎来技术突破,没想到一切来得这么快

  全球芯片问题迎来了有史以来的危机,尤其是在美国联合几个国家对华为采取强制措施后,更是对国内芯片领域发展带来了前所未有的风险,正是因为这样的情况,迫使我国在芯片领域的发展不得不加速日程,不过日前确定在新建的19座芯片工厂中有   16座芯片加工厂在中国兴建。而再此同时EUV光刻机方面也传来了非常好的消息,中科院有了突破性技术进展,一切美好都来得那么快,让我们感觉胜利就在眼前。  
       美国联合欧洲一些国家对华为进行相关禁令后,造成华为所有产品面临巨大的芯片问题,不止是华为国产很多产品同样也遭受到了很严重的芯片问题,在这样的情况下芯片的研制被强行推到了加速的水面上。 
    我们都知道华为不止是生产手机等电子产品,华为集团旗下的华为海思就是专门研制芯片的工厂,但是为什么此次芯片危机给国内带来了影响而海思却没有任何的动作。华为不是能力不行,而华为在之前注重了芯片的设计而没有注重制造,   设计出来的芯片国内工厂没办法制造出来,必须由国外的代工厂来完成,所以这也是国内芯片问题解决的重中之重。  
       我们都知道芯片在制作过程中需要光刻机,没有光刻机就没办法制作出芯片,而我国很早就向ASML公司提出要进口光刻机的申请,但是其公司一直以没有库存敷衍我们,造成一直没有一台属于自己的光刻机,在没有光刻机的情况下芯片生产更是难上加难。 
       比尔盖茨曾经说过,千万不要中断对中国的芯片供应,因为一旦中断对中国的芯片供应,将促使其加快芯片的生产,日后会造成自给自足的状态。而此次全球一年内将要新增19座芯片工厂,这其中有16座要建在中国。对于这16座芯片工厂每个投资都会高达几十亿,再加上人才梯队的创建,可想而知我国对于芯片领域投入了多大的决心。 
    有了这样的决心我国芯片领域的发展将会有很大的进步,上海微电子日前宣布称其已经顺利研制成功28nm光刻机,这是我国在光刻机领域的一个重大突破。而   中科院更是在EUV光刻机最后一个重要组件上迎来了很大的技术突破,相信不久的将来我国可以自行研制成功EVU光刻机。  
       其实对于美国对中国的禁令不止让中国受到了很大的影响同时对美国也有很大的影响,美国相关部门已经递交了多次协议想要放开出口,但美国相关部门一直没有同意。   高通公司更是一而再再而三地递交申请,想要恢复对中国芯片的供应   ,在最近一次的申请后美国相关部门同意高通出口芯片给中国,但仅限4G芯片,于是长达很长一段时间的决绝出口撕开了口子。 
       很多人都说美国这样操作不是自己打自己脸吗,刚开始不同意,后来又同意高通供货,据相关人士介绍美国此番操作其实不是针对华为,而是利用华为的禁令做给欧洲很多企业看的,因为欧洲很多企业逐渐不在使用美国的芯片,美国在芯片出口造成了经济损失。而我国   张召忠很早就说过如果美国进行限制芯片出口,不出三年就不用再出口了,因为我国国内满大街都会是国产芯片   。这样的预测不是没有道理的。 
       华为遇到的问题可以说是我国整体半导体领域遇到的很大的问题,看到了问题的严重性我国相关部门很快做出决断并且给予很大的政策支持,让我国在芯片领域及半导体领域的发展超速提前。日前宣布我国首款芯片“香山”本月底将会进入流片阶段,顺利则会达到量产,   而第二代芯片“南湖”将于今年年底流片后达到量产,在这样的速度下,国产芯片大批量生产将指日可待。  
       最后,新建的16座芯片加工厂将有多少条生产线同时生产,这样的生产规模下我国的芯片将很快能满足国内所需,有甚至还可以实现出口。不过我国现在唯一要突破的就是14nm,只有将14nm突破后就会让芯片领域有一个更加快速的发展,相信不久的将来我国芯片将会实现大范围出口,我国在半导体行业将会有一个飞速的发展,弯道超车在中国身上展现的淋漓尽致。 

7. EUV光刻机要被抛弃?14家巨头联合宣布,这相当于承认了

随着芯片继续向着更小的特征尺寸发展,对产业界都提出了更高的要求,其中起到关键作用的就是光刻机,因为这台设备直接决定可以制造的芯片工艺。  
     
   目前来看,由ASML生产的EUV光刻机,得以让芯片制造商可以制造7纳米以下工艺的芯片,使得电子电路可以继续保持摩尔定律向前发展。  
  
   不过现在来看,EUV光刻机似乎正在被业界所抛弃,首先是就在近日,荷兰方面计划投资11亿欧元来发展光子电路,根据外媒报道,荷兰此举是为了抢占未来的半导体市场,打造下一个ASML。  
  
   无独有偶,近日外媒报道称,由德国却Q.ANT公司牵头,联合14家巨头成立了“PhoQuant”项目,目标就是研发光子芯片电路技术。  
     
   不得不说,这相当于承认,光子芯片开始逐步走向商用,并在一定程度和领域上替代电子电路,而且根据外媒报道,只要完成技术验证,就会向工业界输出,而光子芯片的制造,并不依赖ASML的EUV光刻机。  
  
   这是因为光子芯片与电子芯片有着本质上的不同,ASML的EUV光刻机,是通过减小晶体管的特征尺寸,来增加晶体管的数量,其运算依靠的是电子的迁移。  
     
   而光子芯片则不然,其运算是依靠的光波来作为数据运算的载体,所以基础逻辑就不i一样,这也是为什么光子芯片被称之为下一代半导体技术的重要原因。  
  
   不得不说,这正的是最戏剧性的一幕,因为电子芯片制造设备领域最强的ASML虽然在欧洲,但是欧洲现在却要抢占下一代技术来替代ASML。  
  
   但如果仔细分析,也就不难理解,虽然ASML是一家欧洲企业,但是其光刻机的生产制造,却并不能自己完全掌控,因为其大量的配件需要美国供应,事实上其EUV技术就是来自美国的支持。  
     
   不仅如此,尽管欧洲可以拥有最先进的EUV光刻机,但是却并没有领先的电子芯片制造技术。  
  
   相信大家也看到了,之前欧洲方面计划要重振芯片制造产业,结果只能邀请其像英特尔、台积电、三星等芯片代工厂来帮助。  
  
   但是无一例外的是,大家都提出了巨额的补贴要求,例如欧盟为了吸引英特尔在德国建厂,就给出了50亿欧元的补贴,要知道ASML为了研发EUV光刻机也才投资了60亿欧元。  
     
   这还不是全部,根据媒体报道,意大利也邀请英特尔来建厂,而给予的补贴已经不是一个确定数字,直接按照40%的比例进行补贴。  
  
   所以欧洲有ASML又如何,对重振自己的芯片产业并没有起到多大的助力,这也就可以理解,为何欧洲频频要发力光子芯片,而且这么急切。  
  
   而从更广的范围来看,欧洲不着急也不行了,因为全球都在发展光子芯片,例如我国中科鑫通公司,已经在筹建一条国际领先的光子芯片生产线。  
     
   所以短期来看,光子芯片会与电子芯片处于一个共存的状态,但是长期来看,光子芯片将会替代电子芯片,届时EUV光刻机就真的没用了。  
  
   因此外媒就表示,EUV光刻机要加紧出货了,这样ASML可以及时的回笼资金,研发自己可控的光子芯片制造设备,更早布局更早投入,才能更早的占领先机。  
  
   对此大家怎么看呢?欢迎发表您的评论。

EUV光刻机要被抛弃?14家巨头联合宣布,这相当于承认了

8. 美担心的事还是发生,14家芯片巨头联合出手,EUV光刻机要被抛弃

芯片生产制造离不开光刻机,而在这方面,阿斯麦的技术是最先进的,它制造的EUV光刻机和DUV光刻机几乎垄断了全球市场,但由于老美修改规则,阿斯麦不能自由出货。
     
 即使EUV光刻机可以自由出货,但随着制程的进一步缩小,芯片制造的难度已经快接近理论极限了,所以许多公司都在寻找其他出路,已经有14家芯片巨头联合出手,想在新的光子芯片领域展开研究,那么光子芯片又是什么,这种芯片是否能动摇EUV光刻机的地位。
     
 EUV光刻机一直是芯片制造的核心设备,不管是多少制程的芯片,在进行芯片线路曝光,复刻到硅片上时,都必须用光刻机。根据光刻机型号的不同,光刻的效果也不一样。
     
 比如:5纳米芯片必须用EUV光刻机进行光刻,否则会因为分辨率不够,光刻出来的芯片也达不到相应制程要求,目前拥有最先进制程的厂商是台积电 ,早在2020年台积电就实现5纳米芯片量产, 预计在今年8月份将实现3纳米芯片量产,之所以取得这么快的进步,完全得益于阿斯麦提供的EUV光刻机。
     
 虽然阿斯麦的光刻机很重要,但属于阿斯麦的时代正在宣告结束,这是一位美院士说出的话。这到底是怎么回事,据了解,这位美院士能这样大胆地给阿斯麦下定论,无非是因为他看清这几点,老美修改规则后,阿斯麦不能自由出货,这是众人皆知的事,更重要的是在几十年前,阿斯麦就签订了一份《瓦森纳协定》,禁止向我们出口一切高端技术和设备。
     
 而我们的芯片产业日益壮大,很多企业都需要光刻设备,为了抢占中国市场,很多芯片厂商都加快了研发先进光刻设备的步伐。据有关数据显示:2021年我国成为全球最大的半导体设备市场,销售额高达296 亿美元,同比增长58%。
     
 从这些数据可以看出中国对半导体设备有多大的市场需求。佳能、尼康等老牌光刻机厂商已经联合起来研发先进的光刻机设备,就连德国初创企业也联合14家芯片巨头,在光量子技术芯片领域展开研究,他们的重点就是打造光量子芯片技术,可能大家会比较陌生,光量子芯片和传统芯片不同,它是采用光作为信息的载体。光子比电子更有效率,可携带更多信息,同时光传输时相比铜线损耗更小,使用的能量也更低,速度更快。传统芯片在工作的时候都处于随时待命的状态,就像手机的常亮一样状态,而光子芯片在工作的时候就是待命状态,相当于手机关机的状态,这样能耗很小,更值得一提的是在量子芯片领域,目前还没有一个国家具有绝对的优势。
     
 虽然我们在传统芯片领域发展滞后,但在量子科学基础研究领域,我们始终保持领先,任正非曾明确表示:光子芯片成功研发投入商用后,就可以完全绕开老美的技术,所以华为很早就在光子芯片领域布局,并计划投资10亿英镑在英建设全球研发中心,这些动作都意味着光子芯片的研发正在加速,未来的光刻机市场,阿斯麦不会再一家独大,而是多强并存的局面。也就是说属于阿斯麦的时代正在宣告结束。
     
 总的来说,光子芯片技术解决了摩尔定律失效的问题,电子晶体管诞生到现在已经有半个世纪,凝聚了全人类的智慧结晶,为一系列产业提供崛起根基,直到今天,台积电,三星都研制出3纳米芯片,2025年台积电将实现2纳米芯片量产,就算是这样,很多科学家还是把光子芯片提上日程,这就说明这项技术将是未来的发展方向。
     
 按照光子快于电子的传输效率来看,理论上可以实现普通光刻机造出的芯片和EUV光刻机的一样,如果理论和实践相吻合,那么EUV光刻机很可能被淘汰,可能很多人都会有疑问,光子芯片再好也处在理论中,必须要实际生产出来才行,但是大家忽略了光子芯片和电子芯片的关系,显然光子是对电子芯片的进一步升级,比如:光子用在电子无法实现计算的领域,在处理一些特定的数据时,我们就可以采用光子计算,至于光子芯片能发展到什么程度,还是需要时间来验证的。